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プロセス評価

西澤潤一編. -- 工業調査会, 1981. -- (半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 17巻 . 超LSI技術 ; 4). <BB21048040>
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所蔵一覧 1件~2件(全2件)

No. 巻号 配置場所 請求記号 資料ID コメント 状態 禁帯出区分 予約 Web書棚
0001 瀬田.自動化書庫 549.8/ハンハ/17 38840096378 一般 0件
0002 瀬田.自動化書庫 549.8/ハンハ/17 38940170553 一般 0件
巻号
所蔵館 瀬田
配置場所 瀬田.自動化書庫
請求記号 549.8/ハンハ/17
資料ID 38840096378
コメント
状態
禁帯出区分 一般
返却予定日
予約 0件
Web書棚
巻号
所蔵館 瀬田
配置場所 瀬田.自動化書庫
請求記号 549.8/ハンハ/17
資料ID 38940170553
コメント
状態
禁帯出区分 一般
返却予定日
予約 0件
Web書棚

書誌詳細

標題および責任表示 プロセス評価 / 西澤潤一編
プロセス ヒョウカ
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1981.6
形態事項 12, 446p : 挿図 ; 27cm
書誌構造リンク 半導体研究 / 半導体研究振興会編||ハンドウタイ ケンキュウ <BB10022964> 17巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 4//bb
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注記 執筆: 飯塚尚和ほか
NCID BN00182548
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 西澤, 潤一(1926-)||ニシザワ, ジュンイチ <AU00008325>
分類標目 電子工学 NDC8:549
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 半導体||ハンドウタイ