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ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望 : EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み

平井義彦監修. -- AndTech, 2025. <BB32244569>
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ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望 : EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み

平井義彦監修. -- AndTech, 2025. <BB32244569>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 配置場所 請求記号 資料ID コメント 状態 禁帯出区分 予約 Web書棚
0001 瀬田.本館2F開架 549/ナノイ 32505009752 一般 0件
巻号
所蔵館 瀬田
配置場所 瀬田.本館2F開架
請求記号 549/ナノイ
資料ID 32505009752
コメント
状態
禁帯出区分 一般
予約 0件
Web書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望 : EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み / 平井義彦監修
ナノインプリント・リソグラフィ ノ シャカイ ジッソウ ト ショウライ テンボウ : EUVL ニ タイコウ スル チュウモク ノ ジセダイ ハンドウタイ ビサイ カコウ ギジュツ オヨビ リケイセイ カダイ コクフク ニ ムケタ トリクミ
出版・頒布事項 川崎 : AndTech , 2025.3
形態事項 135p : 挿図 ; 26cm
巻号情報
ISBN 9784909118790
その他の標題 異なりアクセスタイトル:ナノインプリントリソグラフィの社会実装と将来展望 : EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み
ナノインプリント リソグラフィ ノ シャカイ ジッソウ ト ショウライ テンボウ : EUVL ニ タイコウ スル チュウモク ノ ジセダイ ハンドウタイ ビサイ カコウ ギジュツ オヨビ リケイセイ カダイ コクフク ニ ムケタ トリクミ
注記 表現種別: テキスト (ncrcontent), 機器種別: 機器不用 (ncrmedia), キャリア種別: 冊子 (ncrcarrier)
NCID BD11463505
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 平井, 義彦||ヒライ, ヨシヒコ <AU00435952>
分類標目 電子工学 NDC9:549
分類標目 電子工学 NDC10:549
件名標目等 ナノインプリント||ナノインプリント
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