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新しいレジスト材料とナノテクノロジー

シーエムシー出版, 2002. <BB21202511>
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新しいレジスト材料とナノテクノロジー

シーエムシー出版, 2002. <BB21202511>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 配置場所 請求記号 資料ID コメント 状態 禁帯出区分 予約 Web書棚
0001 瀬田.本館2F開架 549.7/アタラ 30300023796 一般 0件
巻号
所蔵館 瀬田
配置場所 瀬田.本館2F開架
請求記号 549.7/アタラ
資料ID 30300023796
コメント
状態
禁帯出区分 一般
返却予定日
予約 0件
Web書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 新しいレジスト材料とナノテクノロジー
アタラシイ レジスト ザイリョウ ト ナノテクノロジー
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2002.9
形態事項 vi,253p ; 27cm
巻号情報
ISBN 4882313677
その他の標題 標題紙タイトル:New polymer resist and nano technology
注記 監修: 山岡亞夫
NCID BA59535465
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山岡, 亜夫(1939-)||ヤマオカ, ツグオ <AU00093995>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 電子工学 NDC9:549.7
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 ナノテクノロジー||ナノテクノロジー
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