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Principles of plasma discharges and materials processing

Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg. -- Wiley, 1994. <BB20292332>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 配置場所 請求記号 資料ID コメント 状態 禁帯出区分 予約 Web書棚
0001 瀬田.自動化書庫 530.4/LIE 39400090392 一般 0件
巻号
所蔵館 瀬田
配置場所 瀬田.自動化書庫
請求記号 530.4/LIE
資料ID 39400090392
コメント
状態
禁帯出区分 一般
返却予定日
予約 0件
Web書棚
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書誌詳細

標題および責任表示 Principles of plasma discharges and materials processing / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
出版・頒布事項 New York : Wiley , c1994
形態事項 xxvi, 572 p. : ill. ; 25 cm
巻号情報
ISBN 0471005770
注記 Includes bibliographical references (p. 559-564) and index
注記 "A Wiley-Interscience publication."
NCID BA2405445X
本文言語コード 英語
著者標目リンク *Lieberman, M. A. (Michael A.) <AU00120303>
著者標目リンク Lichtenberg, Allan J <AU00120304>
分類標目 電磁気学 NDC8:427.6
分類標目 LCC:QC718.5.D9
分類標目 DC20:530.4/4
件名標目等 Plasma dynamics
件名標目等 Thin films -- Surfaces
件名標目等 Plasma etching
件名標目等 Plasma chemistry
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