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Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing
editors, Gregg S. Higashi, Eugene A. Irene, Tadahiro Ohmi. -- Materials Research Society, 1993. -- (Materials Research Society symposium proceedings ; v. 315). <BB21281353>
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Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing
editors, Gregg S. Higashi, Eugene A. Irene, Tadahiro Ohmi. -- Materials Research Society, 1993. -- (Materials Research Society symposium proceedings ; v. 315). <BB21281353>
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瀬田.新館2F開架
621.38/HIG
30400094033
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瀬田
配置場所
瀬田.新館2F開架
請求記号
621.38/HIG
資料ID
30400094033
コメント
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禁帯出区分
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書誌詳細
標題および責任表示
Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing / editors, Gregg S. Higashi, Eugene A. Irene, Tadahiro Ohmi
出版・頒布事項
Pittsburgh, PA : Materials Research Society , 1993
形態事項
xi, 518 p. : ill. ; 24 cm
巻号情報
ISBN
1558992138
書誌構造リンク
Materials Research Society symposium proceedings <BB10001251> v. 315//a
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注記
Symposium Y held during the 1993 Spring Meeting of the Materials Research Society, in San Francisco from April 13-15, 1993
注記
Includes bibliographical references and index
NCID
BA22970911
本文言語コード
英語
著者標目リンク
Higashi, Gregg S. <AU00296448>
著者標目リンク
Irene, Eugene A. <AU00296449>
著者標目リンク
Ohmi, Tadahiro, 1939- <AU00296450>
著者標目リンク
Materials Research Society. Meeting (1993 : San Francisco, Calif.). Symposium Y <>
分類標目
LCC:TK7871.85
分類標目
DC20:621.3815/2
件名標目等
Semiconductors -- Design and construction -- Congresses
件名標目等
Surface preparation -- Congresses
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Semiconductors -- Cleaning -- Congresses
件名標目等
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