龍谷大学図書館

ログイン

  • 目録検索 目録検索 ▼
  • 利用者サービス MyLibraryメニュー ▼
    • 利用状況の確認
    • ブックマーク
    • お気に入り検索
    • グループワークルーム予約
    • 新着アラート
    • ILL複写依頼
    • ILL貸借依頼
    • 図書購入希望

龍谷大学図書館

前の画面へ戻る

Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar

begründet von Eduard Reimer. -- 3., erweiterte und neubearbeitete Aufl. -- C. Heymanns, 1968. <BB20535156>
登録タグ：
登録されているタグはありません
便利機能：
目次・あらすじを見る 詳細情報を見る
書誌URL：

Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar

begründet von Eduard Reimer. -- 3., erweiterte und neubearbeitete Aufl. -- C. Heymanns, 1968. <BB20535156>
登録タグ：
登録されているタグはありません
便利機能：
目次・あらすじを見る 詳細情報を見る
書誌URL：

所蔵一覧 1件～1件（全1件）

ナンバーをクリックすると所蔵詳細をみることができます。

No. 巻号 配置場所 請求記号 資料ID コメント 状態 禁帯出区分 予約 Web書棚
0001 深草.8号館閉架B1 328.1/REI-J 19750587356 一般 0件
巻号
所蔵館 深草
配置場所 深草.8号館閉架B1
請求記号 328.1/REI-J
資料ID 19750587356
コメント
状態
禁帯出区分 一般
予約 0件
Web書棚
このページのTOPへ
このページのTOPへ

書誌詳細

標題および責任表示 Patentgesetz und Gebrauchsmustergesetz : Systematischer Kommentar / begründet von Eduard Reimer
版事項 3., erweiterte und neubearbeitete Aufl / von Karl Nastelski ... [et al.]
出版・頒布事項 Köln : C. Heymanns , 1968
形態事項 xxx, 2505 p. ; 24 cm
NCID BA19109439
本文言語コード ドイツ語
著者標目リンク Reimer, Eduard <AU00196435>
著者標目リンク Karl, Nastelski <AU00196436>
このページのTOPへ
前の画面へ戻る
このページのTOPへ

  • 関連情報

    関連資料

    • 著者からさがす

    他の検索サイトで探す

    他大学資料確認

    資料を取り寄せる

    • ILL複写依頼(コピー取り寄せ)
    • ILL貸借依頼(現物借用)

    購入希望

    この書誌のQRコード