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Silicon integrated circuits

edited by Dawon Kahng ; pt. A, pt. B, pt. C. -- Academic Press, 1981. -- (Applied solid state science : advances in materials and device research / edited by Raymond Wolfe ; consulting editor, C.J. Kriessman ; Supplement, 2). <BB20114146>
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No. 巻号 配置場所 請求記号 資料ID コメント 状態 禁帯出区分 予約 Web書棚
0001 pt. C 瀬田.自動化書庫 530.4/WOL/S-2-3 38840215100 一般 0件
巻号 pt. C
所蔵館 瀬田
配置場所 瀬田.自動化書庫
請求記号 530.4/WOL/S-2-3
資料ID 38840215100
コメント
状態
禁帯出区分 一般
返却予定日
予約 0件
Web書棚

書誌詳細

標題および責任表示 Silicon integrated circuits / edited by Dawon Kahng
出版・頒布事項 New York : Academic Press , 1981-1985
形態事項 3 v. : ill. ; 24 cm
巻号情報
巻次等 pt. A
ISBN 0120029545
巻号情報
巻次等 pt. B
ISBN 012002957X
巻号情報
巻次等 pt. C
ISBN 012002960X
書誌構造リンク Applied solid state science : advances in materials and device research / edited by Raymond Wolfe ; consulting editor, C.J. Kriessman <BB20114128> Supplement, 2//a
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内容著作注記 pt. A: Physics of the MOS transistor / John R. Brews
内容著作注記 Nonvolatile memories / Yoshio Nishi and Hisakazu Iizuka
内容著作注記 The properties of silicon-on-sapphire substrates, devices, and integrated circuits / Alfred C. Ipri
内容著作注記 pt. B: Physics and chemistry of impurity diffusion and oxidation of silicon / Richard B. Fair
内容著作注記 Silicon power field controlled devices and integrated circuits / B. Jayant Baliga
内容著作注記 pt. C. Transient thermal processing of silicon / G.K. Celler and T.E. Seidel
内容著作注記 Reactive ion-beam etching and plasma deposition techniques using electron cyclotron resonance plasmas / Seitaro Matsua
内容著作注記 Physics of VLSI processing and process simulation / W. Fichtner
注記 Includes bibliographies and indexes
NCID BA00942956
本文言語コード 英語
著者標目リンク Kahng, Dawon <AU00053818>
分類標目 LCC:TK7871.99.M44
分類標目 DC19:621.381/71
件名標目等 Metal oxide semiconductors
件名標目等 Semiconductors storage devices
件名標目等 Integrated circuits